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天津厂房净化:如何控制洁净室中的温湿度

时间:2018-07-12 14:14   作者:seo 点击:

  天津厂房净化:如何控制洁净室中的温湿度

天津厂房净化

  洁净空间的温度和湿度主要根据工艺要求确定,但在满足工艺要求时应考虑人的舒适度。随着空气洁净度要求的提高,对温度和湿度的要求也越来越高。具体过程的温度要求将在以后列举,但作为一般原则,随着加工精度的越来越细,对温度波动范围的要求越来越小。例如,在大规模集成电路生产的光刻曝光过程中,玻璃和硅晶片作为掩模材料的热膨胀系数的差异需要越来越小。
        硅片直径为100μm,温升为1度,线性膨胀0.24m,因此必须具有±0.1度的恒温,湿度值一般较低,因为人出汗后,产品会受到污染,尤其是半导体。害怕钠的管道车间。这个车间的温度不应超过25度。湿度过大的问题较多。当相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会形成冷凝。如果发生在精密装置或电路中,就会引起各种事故。相对湿度为50%时易生锈。另外,当湿度过高时,很难通过空气中的水分子去除附着在硅片表面的灰尘。相对湿度越高,去除粘附力越困难,但当相对湿度低于30%时,由于静电力,颗粒也容易吸附到表面,并且大量的半导体器件容易发生击穿。晶圆生产的最佳湿度范围为35~45%。

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